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23AT0067
Glass GEM(Gas Electron Multiplier)基板の電極材料の検討
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0068
金型原盤、MEMS等デバイスにおける微細加工技術の検討
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0071
膜転写によるSixGe1-x-ySny OI基板の作成
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0073
TiN/Alゲート電極形成に向けた条件検討
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0074
アルミナ膜特性評価
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0077
走査プローブ顕微鏡を用いた窒化物半導体の表面モフォロジー解析
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0078
シリコン酸化膜のドライエッチング
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0079
ミニマルアルミスパッタ装置で形成したAl膜の評価
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0080
SiO2膜によるhp 50nm L/Sパターン作成評価
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0081
層間絶縁膜としてのPMMAネガレジストの検討
2024.7.25
産業技術総合研究所
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