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- 23AT0122
- 電圧制御型MRAMデバイスの要素技術開発
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0123
- TEOS-CVDにより成膜したSiO2膜の耐圧評価
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0126
- 磁性薄膜ドット加工
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0128
- Direct write particles
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0133
- 印刷銅配線の断面観察による焼結処理評価
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0135
- 光デバイスの作製
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0136
- スピン軌道トルクを用いた磁化制御に関する研究
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0138
- ダイヤモンド上のALD法によるAl2O3膜の窓開け加工方法
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0141
- ナノカーボン材料/2次元材料に関する研究
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0143
- 超高温環境で動作するAlNデバイスの作製
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所