利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.05.09】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24TU0057

利用課題名 / Title

シリコンナノ周期構造の作製と評価/Evaluation and Fabrication of Silicon nanometer scale periodic structures

利用した実施機関 / Support Institute

東北大学 / Tohoku Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

微細加工,パーティクル


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

肥後 昭男

所属名 / Affiliation

東京大学大学院工学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

石濱晃

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

庄子征希

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TU-301:ウェハゴミ検査装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

 Siウェハに対するnmサイズの微細加工及びその検出には、ノイズとなるウェハ上のパーティクル低減が重要である。今回、数10~数100 nmサイズのSiピラー形成を目的に、S/N比の高い測定結果を得るため、東北大学ナノテク融合技術支援センターの設備を利用し、ピラー形成工程の改善による測定ノイズ低減の効果を評価した。

実験 / Experimental

 約50 nm厚みのレジストを形成したSiウェハを用い、薬液現像後の洗浄及び乾燥方法が異なるサンプルを作製し、各サンプルのパーティクル数をゴミ検査装置によりそれぞれ測定した。洗浄および乾燥条件は以下の通り:
 (ⅰ)流水洗浄1 min、エアーブロー乾燥
 (ⅱ)流水洗浄1 min、スピン乾燥
 (ⅲ)流水洗浄5 min、エアーブロー乾燥

結果と考察 / Results and Discussion

 洗浄および乾燥条件毎に測定したウェハ上のパーティクル分布をFig. 1に示す。乾燥方法をスピン乾燥にすることで、エアーブロー乾燥時に見られたブロー方向に沿って分布するパーティクルは低減した。また、流水洗浄時間を長くすることでもパーティクルは低減した。
 このことから、流水洗浄1 minでは薬液現像に対する洗浄が不十分であり、ウェハ上にレジスト残渣が残留し、エアーブローにより拡散されている可能性が示唆された。流水洗浄時間を長くし、スピン乾燥することで測定ノイズ低減に効果があると予想される。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig. 1 Wafer maps of particles in the WM-3.


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

・共同研究者:トーカロ株式会社 石濱晃
・本検討を進めるにあたり、東北大学マイクロシステム融合研究開発センター森山雅昭准教授、庄子征希研究員には有益なご指導・ご支援をいただいたことを感謝申し上げます。


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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