【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.20】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24TT0045

利用課題名 / Title

微細パターン転写技術に関する技術相談

利用した実施機関 / Support Institute

豊田工業大学 / Toyota Tech.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

光デバイス/ Optical Device,リソグラフィ/ Lithography,フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

小谷 政弘

所属名 / Affiliation

浜松ホトニクス株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators Excluding Supporters in the Hub and Spoke Institutes

井上圭祐

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Supporters in the Hub and Spoke Institutes

佐々木実

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術相談/Technical Consultation（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

曲面など立体形状を持つ素子への微細パターン転写の適用可能性の検討を進めるにあたり、この技術関係の経験が少ないこともあり、試作結果が思うように得られないことが生じた。既知の情報について理解し、今後検討する研究開発アプローチに役立てる。

実験 / Experimental

本技術相談としては実験はしていない。立体サンプルに潜像付きレジスト膜を貼り付ける実験にて、経験豊富な佐々木教授の知見を問い合わせた。SOシート（PVA/PETフィルム）上にレジスト膜を成膜し、微細パターンを転写してから、そのパターンを光学素子などの対象物に貼り付けて転写する技術について、特に貼付け圧力条件に関して相談した。

結果と考察 / Results and Discussion

以前の実験結果の一例を、図1に示す。幅62µmの溝（図の縦方向。溝のピッチは283µm）を越えてレジスト膜を貼り付けた例で、幅10μmのライン-アンド-スペースを図の横方向縞となるよう転写していた。天板が変形できる構造を持つ真空チャンバー内に、レジスト膜と溝付きサンプルを入れた。真空引きを-50kPaで行った例である。この圧力がレジスト膜に加わった。レジスト材は、東京応化工業社THMR-iP5700である。通常のプロセスであれば、問題無くパターンが得られるドーズ量で露光した。しかし、全くパターンが見られず、現像感度がほとんど無くなったことを示す。レジスト膜を貼り付ける方法特有の現象である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

図1：潜像付きフォトレジストを貼り付けたが、幅10µmのライン-アンド-スペースが現像されなかった事例。

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件