【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.01】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT0345
利用課題名 / Title
高性能圧電薄膜の分析
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
セラミックスデバイス/ Ceramic device,センサ/ Sensor,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,電子分光/ Electron spectroscopy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
勅使河原 明彦
所属名 / Affiliation
芝浦工業大学工学部機械機能工学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
片貝 有作
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
沖津 康平
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-308：多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS)with AES
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本実験では、PZT薄膜の多結晶化に関与する要因を明確にするために、バッファ層のエッチング処理が化学結合状態に与える影響をX線光電子分光（XPS：VersaProbeⅢ）を用いて評価した。これまでの研究により、PZTの多結晶化にはバッファ層の表面粗さが影響を与えることが判明していたが、本実験では、エッチングによる化学結合状態の変化が多結晶化に寄与するかを検証することを目的とした。
実験 / Experimental
XPS測定を実施した。試料として、エッチング処理を施したSrRuO3（SRO）バッファ層と、エッチング処理を施していないSROバッファ層を用いた。測定は、Arイオンスパッタリングによる表面清浄化後、Ru 3d軌道を中心にスペクトルを取得する形で行った。
結果と考察 / Results and Discussion
XPS測定の結果、エッチング処理を施したSROと未処理のSROのRu 3dスペクトルを比較したところ、ピーク位置に顕著な変化は見られなかった。これは、エッチング処理がSROの化学結合状態に影響を及ぼさないことを示唆している。一方、一部のピークにおいてわずかな強度低下が観測された。これは、エッチングによる表面形状の変化や、選択的な物質除去の可能性が考えられるが、結合状態そのものには大きな影響を与えていないと考えられる。以上の結果から、SROのエッチングは主に表面粗さの変化を引き起こし、化学結合状態には影響を与えないことが確認された。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1. エッチング処理前後のSrRuO3 (SRO) のXPSスペクトル比較。ピーク位置に顕著な変化は見られず、エッチングがSROの化学結合状態に大きな影響を与えないことを示している。一部のピーク強度の低下が観測された。
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件