【公開日：2025.05.01】【最終更新日：2025.05.01】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22TU0100
利用課題名 / Title
半導体プロセスによる微細光学素子の開発/Development of micro optical element by the semiconductor process.
利用した実施機関 / Support Institute
東北大学 / Tohoku Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
DOE,微細光学素子,リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,光導波路/ Optical waveguide,ナノエレクトロニクスデバイス/ Nanoelectronics device
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
冨士 航
所属名 / Affiliation
株式会社タムロン
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
八重樫光志朗,菊田利行,庄子征希,松本行示,戸津健太郎
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
TU-057：レーザ描画装置
TU-215：イオンミリング装置
TU-326：Zygo Nexview
TU-319：パーク・システムズAFM
TU-306：Tencor 段差計
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
半導体製造プロセスの一つであるフォトリソグラフィー工程を用いた微細光学素子開発として、東北大学西澤センターの設備を利用し、ガラス基板上に微細パターン形成を実施した。
実験 / Experimental
フォトレジストをガラス基板上にスピンコートし、プリベークする。レーザー描画装置 DWL2000CEにてCAD設計データの微細なパターンを露光しポストベークし、現像装置にてパターン現像を行った。その後イオンミリング装置20IBE-Cにて、所定の高さになるまでエッチバックを行い、設計値に対する高さとパターン幅については、段差計AlphaStepおよび白色干渉顕微鏡Nexviewで確認を実施した。
結果と考察 / Results and Discussion
設計値に対する高さとパターン幅に関して、白色干渉顕微鏡で実施したが、Nexviewの横分解能が足りていない懸念があったため、原子間力顕微鏡NX20にて観察を行った。しかしながら今回はガラス基板の影響か、測定条件を上手く見い出せず、NX20で所望の形状を観察することは出来なかった。次回以降、NX20の測定条件出しから再度トライしていきたい。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
東北大学試作コインランドリのスタッフ皆様に心より感謝申し上げます。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件