【公開日：2025.06.09】【最終更新日：2025.06.09】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22GA0027
利用課題名 / Title
薄膜の膜厚測定
利用した実施機関 / Support Institute
香川大学 / Kagawa Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
フィルム, 薄膜, 膜厚測定, 形状・形態観察
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
久保 佑太
所属名 / Affiliation
株式会社ヒューテック
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
基材上に成膜された薄膜の膜厚ムラを観察するため、香川大学のエリプソメータを使用し測定を行った。
実験 / Experimental
エリプソメータ（溝尻光学社製、DHA-XA/M8）を用いサンプルの膜厚をx軸、y軸方向にそれぞれ3 mm間隔で測定し、その測定値を2次元にプロットすることで解析を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
少ない数点での測定では膜厚のムラが生じていないように見えるサンプルでも、Fig. 1に示すように測定点数を増やして測定することで複雑な膜厚ムラが生じていることが分かった。
一方、測定点数を増やして測定することで測定時間が大幅に増えてしまう問題が生じ、より効率的な評価手法を検討することが課題であると分かった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. １ 2次元にプロットされた膜厚測定値のヒートマップ
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件