【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.21】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24WS0421

利用課題名 / Title

マスクアライナー露光・現像条件の確立

利用した実施機関 / Support Institute

早稲田大学 / Waseda Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

リソグラフィ/ Lithography,光リソグラフィ/ Photolithgraphy

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

クー テンホン

所属名 / Affiliation

富士フィルム株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

WS-011：電界放出型 走査電子顕微鏡
WS-014：紫外線露光装置
WS-016：レーザー直接描画装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

目的：UV露光装置を使用し、UV硬化層を設計パターン通りになるように露光処理します。用途：細胞の担体になるように様々のパターンを作成して、実現可否を検証します。実施内容：レーザー直接描画装置MLA150(WS-016)と紫外線露光装置両面マスクアライナMA6(WS-014)で露光処理します。そして、電界放出型走査電子顕微鏡S-4800(WS-011)で表面を観察します。

実験 / Experimental

紫外線露光装置両面マスクアライナMA6(WS-014)を使用して、露光処理後、アルカリ液で現像します。そして、再度紫外線露光装置両面マスクアライナMA6(WS-014)を使用し、後露光します。処理後、電界放出型走査電子顕微鏡S-4800(WS-011)で表面を観察して、設計したパターン通りになったかどうか確認し、結果を判断します。

結果と考察 / Results and Discussion

一部設計パターン通りにできたが、当社が狙っている最小孔径まで実現できなかった。原材料の配合や露光条件など原因を確認中です。おそらく原材料は反応が早いものであり、組成および露光条件を最適化する必要があると考えます。引き続き、露光設備を使用し、最適化を行います。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件