【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.07】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24AT0128
利用課題名 / Title
ナノインプリントの残渣処理
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ナノインプリント/ Nanoimprint,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
廣瀬 敬一
所属名 / Affiliation
株式会社アイシン
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
川又 彰夫
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
導電性基板（FTOガラス）の導伝性機能拡張のためナノインプリント技術を用いてそれを鋳型とし、金属構造体を形成してその試作品の効果検証をする。
実験 / Experimental
FTOガラス基板上にパターン Φ500nm、 ピッチ1μｍ、深さ1μm のホールパターンをUV硬化樹脂にてナノインプリントした。UV硬化樹脂を導電性ガラスの上にドロップしスピンコーターにてその樹脂厚さ1umおよびそ従来の最適条件にてインプリントした。同時に残渣レベルをSEM断面にて観察した。残渣処理には反応性エッチン装置RIEを用い、凸凹形状のレベルおよびそのプロセス時間の検討実験を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
上述した導電性ガラス基板へＵＶ硬化樹脂を成膜し、ナノインプリントパターンを転写した。UV硬化樹脂の諸種の膜厚を試行し、最も残渣が少なくなるよう試行実験を行った。最適化された従来のサンプル表面および断面をFig.1a)c)に示す。残渣処理プロセス低減化を目指したUV硬化樹脂膜のSEM像をFig.1b)d)に示す。図に示すように残渣プロセス低減化品b)は基板との残渣は排除できたが、断面d)からインプリントトップにやや丸みが現れ、最適化品に比べ形状担保ができていないことがわかった。また最適化プリントされた基板（1um程度の硬化樹脂塗布）の残渣エッチン時間25秒を大幅にしたまわることもできなかった。以上の結果より、数十ナノの微量残渣にはそのインプリントパターンを維持するうえでも25秒の酸素アッシング(RIE条件100W/10Pa/30sccm)がよいことがわかった。 本鋳型サンプルを用いて今後金属構造体を形成させその優位性を検証していく。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1A) Imprint Patterns on FTO Glass. Fig.1 B) shows the SEM image of the surface optimized for imprinting, D) cross-section of the optimized surface, C) imprinted surface with minimized resin to reduce residue treatment and E) cross-section of imprint pattern with reduced resin, respectively. We can observe the reduced resin pattern cross-section top slightly rounded.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
本研究は、産業技術総合研究所 ゼロエミッション国際共同研究センター 佐山首席研究員との共同研究の成果であり、ご指導に感謝いたします。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件