【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.12】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24AT0157
利用課題名 / Title
酸化物薄膜の微細加工
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
イオンミリング/ Ion milling,リソグラフィ/ Lithography,エレクトロデバイス/ Electronic device,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,スパッタリング/ Sputtering,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
浅沼 周太郎
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
大塚 照久
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-006：マスクレス露光装置
AT-018：反応性イオンエッチング装置 (RIE)
AT-025：スパッタ成膜装置(芝浦）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
スパッタ法で作製した酸化物薄膜を強誘電特性測定用に微細加工及び電極膜成膜等を行った。
実験 / Experimental
１．スパッタ装置を用いて試料上に膜厚60nm程度のTiN膜を成膜する。
２．マスクレス露光装置を用いて測定用セルのパターンを描き現像する。
３．RIE装置を用いて上部電極層をエッチングし、測定用セルパターンを形成する。
４．超音波洗浄機を用いてIPA中で試料を洗浄しフォトレジストを除去する。
５．マスクレス露光装置で下部電極にコンタクトするための電極パターンを描き現像する。
６．アルゴンミリング装置を用いて酸化物薄膜層をミリングし、下部電極層を露出させる。
７．スパッタ装置を用いて下部電極層にコンタクトするための電極層（TiN）を成膜する。
８．超音波洗浄機を用いてIPA中で試料を洗浄しフォトレジストを除去する。
結果と考察 / Results and Discussion
上記の実験で示したプロセス手順を用いて、n-Si基板上に強誘電特性評価用の試料を作製した。図１に作成した試料の模式図を示す。この構造の試料を用いて酸化物薄膜の強誘電性の評価を行った。その結果、この酸化物薄膜は強誘電性を示すことを確認できた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１ 作製した強誘電特性評価用試料の模式図
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件