【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.07】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NM0009
利用課題名 / Title
金型原盤、MEMS等デバイスにおける微細加工技術の検討
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
センサ/ Sensor,リソグラフィ/ Lithography,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
平井 雄介
所属名 / Affiliation
トーノファインプレーティング株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
平井 美季
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
吉田 美沙
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
当社では、光学分野、医療分野における微細なパターンを有するデバイスを大量かつ安価に生産することを目的として、射出成形を用いた製造プロセスの検討を行っている。この一環として、金型原盤をフォトリソグラフィーを用いて微細パターンの形成検討を行った。半導体、電子デバイスの場合、フォトレジストの厚みはサブマイクロから数マイクロの薄膜において形成するのが一般的であるが、光学、医療用途においては数十マイクロの厚膜レジストによるフォトリソグラフィー形成が必要となる。本検討では厚膜ポジ型フォトレジストを用いフォトリソグラフィーによる微細パターン形状の形成方法を検討した
実験 / Experimental
ポジ型フォトレジストをスピンコーターを用いて膜厚50μmに調整し、マスクレス露光装置MLA-150にて露光を行った。この際、主要パラメーターであるDose及びDefocusを変更し、繰り返し露光形成を行い最適な形状を模索した。
結果と考察 / Results and Discussion
本検討にて得られたパターンの断面形状をFig.1に示した。中心部分のスリット幅の測定値はTop9.02μm、Middle8.46μm、Bottom7.46μmであり、目的値である8μmに対して良好な結果を得ることができた。射出成形金型として用いる場合、溝側面の角度は抜き勾配としての傾斜が必要であるが、この傾斜を大きくしすぎた場合目的としたデバイス特性が得られなくなる為、必要とされる抜き勾配の範囲はデバイスごとに規定される。本案件における適正側面傾斜角は1から3°の間であるが、得られた傾斜角は1.72°となり良好な値を得ることができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 厚膜レジスト露光形成結果
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
検討に当たり、ご助言をいただいたNIMS職員の方々に深く御礼申し上げます
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件