利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.05.07】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24NM0020

利用課題名 / Title

ガラス基板上のFe蒸着

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

電子線リソグラフィ/ EB lithography,リソグラフィ/ Lithography,スピントロニクス/ Spintronics,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

吉田 翔太朗

所属名 / Affiliation

京セラ株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

岸田 裕司

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-635:電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
NM-642:電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
NM-227:電界放出形走査電子顕微鏡(SU8000)


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

AI, IoTの技術革新に伴って、各種センサーの研究開発が活発に行われており、なかでも磁気センサーは、従来、ホール 素子、TMR、MIなどの方式が知られており、実用化されている。このような背景で、我々はそれら従来の方式とは原理の 異なるセンサーの基本的な特性を確認したことから、その技術により従来用いられてこなかった分野や用途を新たに開拓することを狙いとして研究開発を進めている。この研究開発においては、主に薄膜の微細加工技術を用いて、センサー評価用のFeの成膜を実施した。

実験 / Experimental

ガラス基板の洗浄、電子ビーム描画装置によるガラス基板上にパターニング、蒸着機を用いて成膜(材料:Fe、膜厚300nm、大きさ100nm~2.0um□)、リフトオフ、パターン形状の評価。

結果と考察 / Results and Discussion

SEMにてパターン形状の評価の実施を行った。ガラス基板上にパターン形状ができていることを図1のSEM像より確認している。結果、Feの微細パターニング200nm□までは実施できたと判断した。100nm□についてはパターンを確認できなかった。□パターンのため、端に応力が集中し剥がれてたと考える。今後、この作製したサンプルを用いて、センサー評価を行う予定である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1、SEM像


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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