【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.23】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NM0055
利用課題名 / Title
ファンデルワールス薄膜を用いた新規メゾスコピック素子の作製
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
原子薄膜/ Atomic thin film,スピン制御/ Spin control,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
佐々木 健人
所属名 / Affiliation
東京大学 大学院理学系研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
小林 研介,西村俊亮,顧豪
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
吉田 美沙
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本課題では、ファンデルワールス(vdW)薄膜を用いた新規メゾスコピックデバイスの作製を目指し、デバイスそのものや周辺材料の加工を行っている。本年度は、vdW薄膜自体のプロセスに先立って、測定に必要になる周辺技術、特にマイクロ波導波路について開発を進めた。vdW薄膜デバイスの測定用に利用するマイクロ波導波路に対してボンディングによる配線を容易にするため、使用するアルミナ基板への金のスパッタを行った。
実験 / Experimental
当研究室でマイクロ波回路基板として利用しているCERcuits社製の両面銅箔アルミナ基板(サイズ125 mm x 125 mm x 0.5 mm, 銅箔厚35um)に対し、NM-608で金をスパッタした。
結果と考察 / Results and Discussion
図1が仕上がった基板の写真である。基板表面が金で均一にコーティングされて光沢がある。この基板を基板加工装置で加工することで、コプレーナ導波路(図1左上)を得ることができた。今後はこのコプレーナ導波路を冷凍機内部に配置、金線でボンディングすることで、vdW薄膜デバイスにマイクロ波照射するために利用する。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 金をスパッタした後のアルミナ基板。基板サイズは125mm角。左上部分にある基板は左下部分から切り出して加工したマイクロ波導波路。
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件