利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.04.22】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24NM0127

利用課題名 / Title

反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed

キーワード / Keywords

表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,メタマテリアル/ Metamaterial,フォトニクス/ Photonics,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

戸谷 剛

所属名 / Affiliation

北海道大学 大学院工学研究院

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

小田島 聡

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-665:電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

金属/絶縁体/金属/基板 構造(MIM構造)を持つ波長制御赤外線エミッタと絶縁体/金属/絶縁体/金属/基板 構造(IMIM構造)を持つ波長制御赤外線エミッタの作製を行っている。通常使用している北海道大学の装置に不具合が発生し、長期使用不可となったため,代替装置として紹介された物質・材料研究機構(NIMS)の電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]を用いて,同様の結果が得られるか検証を行うことが目的である。

実験 / Experimental

MIM構造とIMIM構造の作製手順をFig. 1に示す。北海道大学のコンパクトスパッタ,もしくは多元スパッタでCrとAuをスパッタし,原子層堆積装置(ALD)でAl2O3を成膜した後,東京大学で電子線描画を行い,現像後,物質・材料研究機構(NIMS)にて電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]を用いてCrとAuを蒸着し,北海道大学でリフトオフし,MIM構造を作製する。IMIM構造の場合は,さらに原子層堆積装置(ALD)でAl2O3を成膜して作製する。

結果と考察 / Results and Discussion

Fig. 2に作製したMIM構造の垂直放射率を,Fig. 3はIMIM構造の垂直放射率を示す.図中の#1から#3は,作製した25 mm角の試料の中心付近を測定した1回目から3回目の表す.この図からMIM構造およびIMIM構造とも高い波長選択性を示していることが分かる.以上より,物質・材料研究機構(NIMS)の電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]で,MIM構造およびIMIM構造の上部金属部を作製可能だと言える.

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig. 1 Fabrication process of MIM and IMIM structures.



Fig. 2 Normal emissivity of MIM structure.



Fig. 3 Normal emissity of IMIM structure.


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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