【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.03.25】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NM0145
利用課題名 / Title
ナノ薄膜の熱処理
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
熱処理、レーザーアニール/ Thermal treatment and laser annealing, 走査型プローブ顕微鏡/ Scanning probe microscopy, 蒸着（抵抗加熱、電子線）/ Evaporation (resistance heating and electron beam),ナノ粒子/ Nanoparticles
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
中村 威信
所属名 / Affiliation
旭化成エレクトロニクス株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
市村 翔
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
津谷 大樹,簑原 郁乃
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
グラフェンデバイス上に積層したPdAuCu合金ナノ薄膜が、赤外線ランプアニール加熱装置(RTP-6)の水素還元雰囲気中熱処理によりナノ粒子を形成することを確認する。
実験 / Experimental
予めEB蒸着機を用いて、SiO2基板上の単層グラフェン上にPdAuCu合金薄膜を積層させた。
赤外線ランプアニールにより、アルゴン＋水素3%の還元雰囲気において、12分で400℃まで上昇、400℃で30分保持、その後1時間20分かけて50℃まで徐冷した（図１の温度プロファイル参照）。
その後AFM（原子間力顕微鏡、SPM-9700)を用いて、グラフェン表面上を観察した。
結果と考察 / Results and Discussion
アニール後のグラフェン表面の500nm四方のAFM画像を図２に示す。
グラフェン上に幅20～40nm、高さ約5nmの凸部が形成されている様子が観測された。これらが面積に占める割合は約36％であった。
これにより、水素還元雰囲気の赤外線ランプアニール加熱処理によって、グラフェン上でPdAuCu合金薄膜が凝集し粒子を形成することが確認できた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１. 温度プロファイル
図２. Pd/Au/Cu薄膜のアニール後のAFM画像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件