【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.11】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NM0177
利用課題名 / Title
Siエッジ試料作製
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電子線リソグラフィ/ EB lithography,ダイシング/ Dicing,リソグラフィ/ Lithography,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
山本 隼大
所属名 / Affiliation
筑波大学 理工学群応用理工学類
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
浦野 絵里,渡辺 英一郎,大谷 まさみ
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NM-638：水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]
NM-604：マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
NM-642：電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
NM-635：電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
NM-629：ダイシングソー [DAD322]
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
SEMの分解能評価に用いる試料を作製することを目的とする。試料の形状として、シリコンウエハ上に150nmピッチでラインアンドスペースパターンを作製することを想定している。
実験 / Experimental
今年度はスケジュールの都合上、装置トレーニングのみの利用となっている。マスクレス露光装置や電子銃型蒸着装置を用いて、シリコンウエハ上にダイシング用のガイドや電子線描画装置用のアライメントマークを描画した。
結果と考察 / Results and Discussion
今年度の装置利用では分解能評価に直接関連するプロセスは含まれないが、その前準備となるダイシング用のガイドやアライメントマークの描画プロセスについてご教授いただき、トレーニングによりそれらのプロセスを行うことが可能になった。本工程は円滑な試料作製において重要な工程となると考えられる。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件