【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.17】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24NM0187

利用課題名 / Title

暗視野TEM画像撮影による、コバルトフェライト薄膜におけるAPBの観察

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

磁気記録材料/Magnetic recording materials,電子顕微鏡/ Electronic microscope

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

竹尾 昂起

所属名 / Affiliation

筑波大学　大学院数理物質科学研究群

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-503：200kV電界放出形透過電子顕微鏡（JEM-2100F1）

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

酸素雰囲気でアニールを行うことで、スピネルフェライト薄膜の磁気特性改善を目指した研究を行っています。 研究の主な目的は、APBによるデッドレイヤー層を減少させることです。 実験内容は、メタルモードで成膜した導電性コバルトフェライト薄膜に対して、成膜時と比較して高酸素圧でアニールを実施、試料を酸化させることで、デッドレイヤー層の減少を期待しています。 実験結果 ・アニール後の磁気特性は、飽和磁化・保磁力・角型比が増加 ・格子定数が変化 ・膜厚依存性を計算したところ、図1のようにデッドレイヤー層の減少を確認（3.86 nm → 0.785 nm)

→暗視野TEMを撮影することで、APBの観察を依頼した。

実験 / Experimental

酸化前後の試料に対して、JEM-2100Fを利用して暗視野・明視野TEM画像を撮影した。

結果と考察 / Results and Discussion

図２、３に示す酸化前後の試料の暗視野TEM画像を観察したところ、画像の陰の部分（逆位相境界が見られる部分）が酸化後に減少していることが確認された。事前に、酸化後に磁気特性が向上していることが分かっており、この原因が逆位相境界の減少によるものと裏付けられる結果を得られた、今後は切断法によってラインプロファイルを行い、解析を進めたい。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

図1. 飽和磁化の膜厚依存性を用いたデッドレイヤー層の評価

図2. 暗視野TEM画像（酸化前）

図3. 暗視野TEM画像（酸化後）

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

試料をお渡しした後、速やかにご対応いただき、誠にありがとうございました。
Kouki Takeo, and Hideto Yanagihara, "Reduction of antiphase boundary density of spinel ferrite thin films by oxidation annealing" 国際磁気学会, ポスター発表, 25/04/22

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件