【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.01】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NM5389
利用課題名 / Title
半導体欠陥制御に関する研究
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
量子効果/ Quantum effect,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
辻 赳行
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ダイヤモンド中の欠陥のスピン状態操作には、マイクロ波の照射が必要である。マイクロ波回路の作製のために、電子銃型蒸着装置を用いて、ガラス基板上にパターニングを行った。
実験 / Experimental
ガラス基板上に、チタン20 nm, 銅 100 nm, 金 20 nmを蒸着した。
結果と考察 / Results and Discussion
蒸着した結果、ガラス基板上に所望のパターンを形成できた。マイクロ波回路を作製し、5 dBmの2.87 GHzのマイクロ波を流したところ、正常に動作した。このマイクロ波を用いて、ダイヤモンド中の窒素空孔欠陥のスピン操作を行ったところ、スピン状態制御による蛍光強度の増減が確認できた。したがって、この蒸着プロセスはダイヤモンド中の欠陥のスピン状態操作のためのマイクロ波回路の作製に適していることが分かった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件