【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.09】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NM5417
利用課題名 / Title
電気化学センサの研究開発
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電気化学センサ / electrochemical sensor,センサ/ Sensor,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
川喜多 仁
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
今留 浩一
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
簑原 郁乃
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
環境の変化に伴い物質・材料に生じる電気化学の反応や変化を利用し、その反応量や変化量を検出する電気化学センサの研究開発を行っている。各種の回路パターンを試作するため、試作用シリコンウェハーの洗浄を行った。
実験 / Experimental
シリコンウェハー表面に付着しているコンタミ除去のため、リフトオフ装置 [KLO-150CBU]を用いてオペレーター推奨の条件にてウェハー清浄を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
結果としては、シリコンウェハー表面の付着物の除去はできなかった。考察としては、推奨された条件では除去に必要な清浄力を得られなかったためと考えている。 今後の展開：当該装置が廃棄となったため、さらなる条件検討はできない状況である。そのため他の方法を検討している。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件