【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.06】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NM5444
利用課題名 / Title
有機薄膜デバイス用材料の物性・構造解析
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
有機薄膜,資源代替技術/ Resource alternative technology,X線回折/ X-ray diffraction,資源使用量低減技術/ Technologies for reducing resource usage
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
安田 剛
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
有機薄膜デバイス用材料の物性・性能は、有機薄膜中における有機分子の結晶性、配向性に強く依存する。本研究では、高性能有機材料の開発を行う為に、有機分子の開発のみならず、有機分子集合体の結晶状態、配向状態を解析し、分子・薄膜構造と物性・デバイス特性の関係を調査する。
実験 / Experimental
Si/SiO2基板の表面を疎水化するために、ヘキサメチルジシラザン（HMDS）原液を1000 rpm 30秒でスピンコートし、100度5分の熱処理を行った。その後、基板をアセトン、エタノールで超音波洗浄を行い、XRD用基板を作製した。新規高分子材料のクロロホルム溶液（3 mg/ml）を上記で準備した基板上にドロップキャストし、高分子薄膜を作製した。高分子薄膜は熱処理なし、および110度10分で熱処理して、out-of-plane XRDの測定、比較を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
図は新規高分子材料のXRDである。熱処理なし（RT）でも結晶性を示し、110度の熱処理を行うことで、結晶性が大きく向上していることが分かる。類似化学構造のポリ (3-ヘキシルチオフェン)（P3HT）の薄膜構造を考慮すると、これらの結晶構造はアルキル鎖が垂直に配向したラメラ構造が支配的であると推測される。今後は、この新規高分子材料を用いて、高い結晶性薄膜が必要な有機薄膜トランジスタあるいは有機薄膜太陽電池の作製、評価を行う予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図 新規高分子材料の熱処理前後のでXRD
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
NIMS 廣戸孝信 博士に多くのご助言と協力を頂きました。感謝申し上げます。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件