【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.09】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NM5465
利用課題名 / Title
ナノインデンテーション測定における試料およびインデンター表面のALD成膜の影響評価
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ALD
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
大村 孝仁
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
EDWARDS Thomas Edward James
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
大井 暁彦
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
To consider the opportunity for reduced oxidation of sample surface or reactivity with indenter tips, Al2O3 coatings produced by atomic layer deposition (ALD) were deposited on Ni superalloys samples, or, alternatively Berkovich indentation tips.
実験 / Experimental
Coatings of thicknesses 1, 5 and 25 nm were deposited by atomic layer deposition from H2O and tri-methyl-aluminium at 300 °C on Ni superalloy samples. 5nm coatings were equivalently applied to B-doped diamond and c-BN Berkovich nanoindentation tips.
結果と考察 / Results and Discussion
Currently nanoindentation testing and data analysis is still underway.
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件