【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.13】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24RO0022

利用課題名 / Title

プラズモニック基板用回析格子パターニング

利用した実施機関 / Support Institute

広島大学 / Hiroshima Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions

キーワード / Keywords

電子線リソグラフィ/ EB lithography,フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,フォトニクス/ Photonics

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

小野 篤史

所属名 / Affiliation

静岡大学大学院工学研究科　

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

田部井 哲夫

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

RO-111： 超高精度電子ビーム描画装置
RO-121：スピンコータ
RO-131：レイアウト設計ツール

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

表面プラズモン共鳴を各偏光方位に対して励起するような2次元配列アレイパターンを作製する．

実験 / Experimental

10mm角石英基板上にスピンコーターを用いて電子線用レジストZEP520Aを約150nm成膜し，チャージアップを防ぐためエスペイサーを塗布した．ドーズ量180µC/cm^2にて電子線描画により周期が数100nmのライン&スペースを0度，45度，90度，135度の4方位パターニングした．露光後，水洗，現像，リンスを行った．

結果と考察 / Results and Discussion

SEM観察結果より，石英基板上にライン&スペースのレジストパターンが0度，45度，90度，135度の4方位作製されていることを確認した．このレジストパターンをマスクとすることにより，金属プラズモニック構造が作製されると考えられる．

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件