【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.04.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1261
利用課題名 / Title
電子ビームリソグラフィにおけるPEDOT:PSSの露光特性評価
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-
【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-
キーワード / Keywords
触針段差計,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)
楊 彦東
所属名 / Affiliation
東京大学新領域創成科学研究科人間環境学専攻
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
割澤 伸一(東京大学大学院新領域創成科学研究科),米谷 玲皇(東京大学大学院新領域創成科学研究科)
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
電子ビームリソグラフィにおけるPEDOT:PSS(Poly(3,4-EthyleneDiOxyThiophene):Poly(4-StyreneSulfonate))の露光特性評価を行った.この評価において,形状・膜厚・電気特性評価装置群(DektakXT)を使用し,電子ビームリソグラフィにより形成したPEDOT:PSSパターンの膜厚を評価した。
実験 / Experimental
SiO2/Si基板上のPEDOT:PSS(Poly(3,4-EthyleneDiOxyThiophene):Poly(4-StyreneSulfonate))の電子ビームリソグラフィーにおける露光特性を評価した.この評価パターンの作製では,PEDOT:PSSは,スピン塗布によりSiO2/Si基板上へ製膜し,24時間以上乾燥させた.また,自研究室で利用できる加速電圧 50 kV, ビーム電流 100 pAの電子ビームを用い,電子ビームリソグラフィーを行った.ラインパターン(幅: ビーム径幅)の描画を行い,現像は,水により行った.露光特性として,露光ドーズに対し形成されるPEDOT:PSSパターンの膜厚を評価した.この膜厚評価において,形状・膜厚・電気特性評価装置群(DektakXT)を用いた.
結果と考察 / Results and Discussion
露光ドーズに対するPEDOT:PSSラインパターンの膜厚を、Fig. 1に示す。本評価により、PEDOT:PSSのパターニングにおける露光ドーズと形成されるラインパターンの膜厚との関係が明らかとなった。PEDOT:PSSを利用する様々なデバイスの研究開発への応用が期待される。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 Dose dependency of line thickness
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件