【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.29】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24UT1261

利用課題名 / Title

電子ビームリソグラフィにおけるPEDOT:PSSの露光特性評価

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

触針段差計,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

楊 彦東

所属名 / Affiliation

東京大学新領域創成科学研究科人間環境学専攻

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

割澤　伸一（東京大学大学院新領域創成科学研究科）,米谷　玲皇（東京大学大学院新領域創成科学研究科）

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-850：形状・膜厚・電気特性評価装置群

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

電子ビームリソグラフィにおけるPEDOT:PSS(Poly(3,4-EthyleneDiOxyThiophene):Poly(4-StyreneSulfonate))の露光特性評価を行った．この評価において，形状・膜厚・電気特性評価装置群（DektakXT）を使用し，電子ビームリソグラフィにより形成したPEDOT:PSSパターンの膜厚を評価した。

実験 / Experimental

SiO₂/Si基板上のPEDOT:PSS(Poly(3,4-EthyleneDiOxyThiophene):Poly(4-StyreneSulfonate))の電子ビームリソグラフィーにおける露光特性を評価した．この評価パターンの作製では，PEDOT:PSSは，スピン塗布によりSiO₂/Si基板上へ製膜し，24時間以上乾燥させた．また，自研究室で利用できる加速電圧 50 kV, ビーム電流 100 pAの電子ビームを用い，電子ビームリソグラフィーを行った．ラインパターン（幅: ビーム径幅）の描画を行い，現像は，水により行った．露光特性として，露光ドーズに対し形成されるPEDOT:PSSパターンの膜厚を評価した．この膜厚評価において，形状・膜厚・電気特性評価装置群（DektakXT）を用いた．

結果と考察 / Results and Discussion

露光ドーズに対するPEDOT:PSSラインパターンの膜厚を、Fig. 1に示す。本評価により、PEDOT:PSSのパターニングにおける露光ドーズと形成されるラインパターンの膜厚との関係が明らかとなった。PEDOT:PSSを利用する様々なデバイスの研究開発への応用が期待される。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig. 1 Dose dependency of line thickness

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件