利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.04.29】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24UT1261

利用課題名 / Title

電子ビームリソグラフィにおけるPEDOT:PSSの露光特性評価

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

触針段差計,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

楊 彦東

所属名 / Affiliation

東京大学新領域創成科学研究科人間環境学専攻

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

割澤 伸一(東京大学大学院新領域創成科学研究科),米谷 玲皇(東京大学大学院新領域創成科学研究科)

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-850:形状・膜厚・電気特性評価装置群


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

電子ビームリソグラフィにおけるPEDOT:PSS(Poly(3,4-EthyleneDiOxyThiophene):Poly(4-StyreneSulfonate))の露光特性評価を行った.この評価において,形状・膜厚・電気特性評価装置群(DektakXT)を使用し,電子ビームリソグラフィにより形成したPEDOT:PSSパターンの膜厚を評価した。

実験 / Experimental

SiO2/Si基板上のPEDOT:PSS(Poly(3,4-EthyleneDiOxyThiophene):Poly(4-StyreneSulfonate))の電子ビームリソグラフィーにおける露光特性を評価した.この評価パターンの作製では,PEDOT:PSSは,スピン塗布によりSiO2/Si基板上へ製膜し,24時間以上乾燥させた.また,自研究室で利用できる加速電圧 50 kV, ビーム電流 100 pAの電子ビームを用い,電子ビームリソグラフィーを行った.ラインパターン(幅: ビーム径幅)の描画を行い,現像は,水により行った.露光特性として,露光ドーズに対し形成されるPEDOT:PSSパターンの膜厚を評価した.この膜厚評価において,形状・膜厚・電気特性評価装置群(DektakXT)を用いた.

結果と考察 / Results and Discussion

露光ドーズに対するPEDOT:PSSラインパターンの膜厚を、Fig. 1に示す。本評価により、PEDOT:PSSのパターニングにおける露光ドーズと形成されるラインパターンの膜厚との関係が明らかとなった。PEDOT:PSSを利用する様々なデバイスの研究開発への応用が期待される。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig. 1 Dose dependency of line thickness


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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