利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.05.15】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24NM5511

利用課題名 / Title

ポリマー薄膜の膜厚・屈折率評価

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

ポリマー, スピンコート, エリプソメーター, 屈折率


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

佐光 貞樹

所属名 / Affiliation

物質・材料研究機構

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

尾崎 康子

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術補助/Technical Assistance


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-655:分光エリプソメーター [M2000]


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

機能性に優れたポリマー材料を開発するために、固体基板上にポリマーを塗布した薄膜サンプルを作製し、その膜厚や屈折率を計測装置で評価する。

実験 / Experimental

屈折率の波長分散評価では、シリコン基板上にスピンコート法で高分子薄膜を形成し、分光エリプソメータ—で測定した。シリコン基板・酸化層・高分子層の3層構造モデルを作成し、モデルによるフィッティングで屈折率と膜厚を同時に求めた。

結果と考察 / Results and Discussion

高分子層の厚みと波長分散を考慮した屈折率をフィッティングパラメータとして、エリプソメトリーのスペクトルフィッティングを行った。このフィッティングの結果から、合成した高分子の屈折率とアッベ数を決定することができた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


エリプソメトリーのスペクトルとモデルフィッティングの結果


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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