【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.09】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24HK0029

利用課題名 / Title

透過電子顕微鏡による結晶化観察のための溶液セルの開発

利用した実施機関 / Support Institute

北海道大学 / Hokkaido Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

in-situ TEM, 溶液セル,ALD,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

山﨑 智也

所属名 / Affiliation

北海道大学 低温科学研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

遠堂敬史,中村圭佑

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

HK-616：原子層堆積装置
HK-626：光学干渉式膜厚計

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

透過電子顕微鏡法における溶液セルは、アモルファス窒化ケイ素の薄膜などを透過電子顕微鏡の高真空環境と溶液との隔膜として用い、溶液を観察する手法である。結晶化などの現象をナノスケール、実時間で観察することに期待できる一方、ナノスケールの空間に結晶化を生じさせ、それを捉えることは容易ではない。本研究では、微細加工技術を利用し、結晶化を促進させるための溶液セルの開発を目指す。

実験 / Experimental

溶液セルの作製にはアモルファス窒化ケイ素薄膜を備えたシリコンチップを用いる。今回は、結晶化を促進させるための加工を施したシリコンチップにシリカを絶縁膜として製膜するため、原子層堆積(ALD)装置を利用した。

結果と考察 / Results and Discussion

シリコンチップ上には成膜したくない箇所があり、ここをどのようにして成膜しないようにするかを検討した。シリカの成膜には300℃が必要であるため、300℃に耐えるアルミテープで保護する方法、マジックで保護し成膜後に溶剤で溶かす方法を検討した。これらの方法で成膜プロセスを行ったシリコンチップは現在評価中である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

装置利用に多大なご協力をいただきました遠堂敬史氏、中村圭佑氏に感謝申し上げます。

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件