【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.09】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24HK0097
利用課題名 / Title
多元スパッタ味見サンプル作製
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学 / Hokkaido Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,スパッタリング/ Sputtering
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
竹下 翔也
所属名 / Affiliation
日東電工株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
中村圭佑,遠堂敬史,佐々木仁,松尾保孝,原田真吾
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
多元スパッタ装置[アルバック社製QAM-4-STS] を用い、PET基材に対して各種ターゲットを用いたDCスパッタを実施し、合金の安定性や面内分布の評価を行った。
実験 / Experimental
多元スパッタ装置(HK-611)：100umPET基材に対し2530s~10120s
XRF(ARIM外装置)：管電圧50kV、1点あたり60secで定量分析を実施
結果と考察 / Results and Discussion
安定性：特に外観的な異常はなく、厚みにして約400nmであるが懸念事項であったカールも未発生。
面内合金分布：7cmx7cmサンプルを作製後、これを４分割しXRF実施。面内で約30%のばらつきを確認。ばらつきが大きい印象。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件