【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24HK0143
利用課題名 / Title
AESによるRDL開口部酸化膜厚測定
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学 / Hokkaido Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
膜厚測定/ Film thickness measurement,オージェ電子分光/ Auger electron spectroscopy,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,電子分光/ Electron spectroscopy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高木 守人
所属名 / Affiliation
ユニマイクロンジャパン株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
鈴木 啓太様
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
大気ベーキングとN2ベーキングで熱履歴を振った酸化膜厚の差を確認
実験 / Experimental
酸化膜厚測定(AESによる深さ方向分析)
結果と考察 / Results and Discussion
図１に大気ベーキングとN2ベーキング、それぞれで熱履歴を振った際のオージェ分光AESによる深さ方向分析結果を示す
熱履歴の負荷が大きいと酸化膜厚は増加するが、N2雰囲気下で酸化膜厚は抑制可能であることがわかった
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 酸化膜厚測定(AESによる深さ方向分析)の結果
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
北海道大学 鈴木啓太様この度は、お忙しい中迅速に測定をしていただき、誠にありがとうございました。良好な結果を得ることができ、感謝しております。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件