【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.15】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24HK0165
利用課題名 / Title
Imaging optical near-field modes with photoemission electron microscopy
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学 / Hokkaido Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ALD,電子線リソグラフィ/ EB lithography,ナノ粒子/ Nanoparticles,走査プローブ顕微鏡/ Scanning probe microscope,スパッタリング/ Sputtering
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
李 耀龍
所属名 / Affiliation
北京大学(中国), 北海道大学 電子科学研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
Hiroaki Misawa
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
Xu Shi,Yasutaka Matsuo
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
HK-630：微細形状測定機(段差計)
HK-603：超高速スキャン電子線描画装置(130kV)
HK-609：ヘリコンスパッタリング装置
HK-617：原子層堆積装置（粉末対応型）
HK-404：超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
1. Investigating the hyperbolic plasmon properties of a new layered material: MoOCl2, which has potential application in nonophotonics and polarization devices.2. Investigating Au plasmon-TiO2 metasurface strong coupling for near-field enhancement.
実験 / Experimental
1. Using the microfigure measuring instrument to measure the thickness of layered material. Then, measuring the transmission spectra of the material with different thickness with FTIR.2. Using Sputtering to deposite 100nm Au on ITO glass, and then using ALD to grow TiO2 film, and making strucutres with EB Lithography and further Au sputtering. Finally getting Au nanostrucutrures on TiO2/Au film. Using the Scanning Probe Microscopy to obseve the quality of nanostructures.The sample preparation was done using the ARIM facility, while the FTIR and SPM characterization were done elsewhere.
結果と考察 / Results and Discussion
1.I measured the thickness of several MoOCl2 thin films with the microfigure measuring instrument, with thicknesses in the range of ~10-1000 nm. I found that the MoOCl2 thin film has good polarization properties.2. I fabricated Au/TiO2 film structures, further optimizing is still in process.
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 Representative result of thickness measurement
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件