【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.08】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT0039
利用課題名 / Title
当社プロセスによる金属組織変態の評価
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials
キーワード / Keywords
異種材料接着・接合技術/ Dissimilar material adhesion/bonding technology,高周波デバイス/ High frequency device,電子顕微鏡/ Electronic microscope,電子回折/ Electron diffraction,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique,エレクトロデバイス/ Electronic device,集束イオンビーム/ Focused ion beam
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
田口 秀幸
所属名 / Affiliation
株式会社村田製作所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-103：高分解能走査型電子顕微鏡
UT-156：集束イオンビーム加工観察装置（FIB）
UT-012：多機能電界放出型透過電子顕微鏡
UT-006：ハイスループット電子顕微鏡
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
材料Aおよび材料B、材料C、材料D、材料Eを用いて当社プロセスにより高分子・金属複合製品を製造する際、材料がどのように変化しているか分析・解析するため、マテリアル先端リサーチインフラの装置を借用した。
実験 / Experimental
材料Aおよび材料B、材料C、材料D、材料Eを用いて当社プロセスにより高分子・金属複合製品を製造した。
結果と考察 / Results and Discussion
材料Aおよび材料B、材料C、材料D、材料Eを用いて当社プロセスにより製造した高分子・金属複合製品について、集束イオンビーム電子ビーム複合ビーム加工観察装置JIB-PS500iにて試料調製し、高分解能走査型電子顕微鏡（JSM-7000F（EBSD））を用いて結晶構造解析、多機能電界放出形透過電子顕微鏡JEM-F200または透過走査型電子顕微鏡JEM-2800にて接合界面の分析を実施した。その結果、製品製造時のプロセスマージンがあることが明確となった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件