【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.23】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT0292
利用課題名 / Title
LIB電池におけるCNT効果の解析
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電極材料/ Electrode material,電子顕微鏡/ Electronic microscope,イオンミリング/ Ion milling,二次電池/ Secondary battery
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
竹下 誠
所属名 / Affiliation
日本ゼオン株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
牧 洪太
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
福川 昌宏,近藤 尭之
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-105：高分解能走査型分析電子顕微鏡
UT-158：大気非暴露対応冷却クロスセクションポリッシャ
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
弊社はシングルウォールカーボンナノチューブ（SWCNT）の製造・研究を行ってお り、LIB電池へ活用することにより性能向上を検討している。そのためには、充放電劣化後の状態を観察し、電池へのCNT効果のメカニズムを検証する必要がある。一方、充放電後の電池は大気暴露で表面状態が変化するため、大気非暴露下での加工や観察が必須となる。そのため、東京大学 マテリアル先端リサーチインフラの大気非暴露の断面加工装置(IB-19520CCP)及びFE-SEM観察装置（JSM-IT800SHL)を用いて、充放電後の電極観察を実施した。
実験 / Experimental
観察用に充放電劣化後のCNT添加負極を準備した。そして、前処理として、グローブボックス内で電池の分解、洗浄、乾燥を実施した。準備したサンプルは専用の雰囲気遮断トランスファーベッセルを用いて、大気非暴露下での断面加工及び大気非暴露下でのFE-SEM観察を実施した。これにより、負極活物質とCNTの関係を詳細に評価した。
結果と考察 / Results and Discussion
充放電後のCNT添加負極を大気非暴露下でSEM観察したところ、負極上にCNTが観察でき、活物質上でどのような状態になっているか明確になった。又、大気暴露と大気非暴露のサンプルを比較すると明らかに形状が異なっており、大気暴露の状態ではCNTの状態は詳細には判断できないことも確認した。本検討で、大気非暴露下での負極の観察場所によって、活物質とCNTの状態変化が詳細に分かった。今後精密な解析を行うことで劣化原因を突き止め、高性能電池に寄与できるCNTが提案できると考える。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件