利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.05.01】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24UT0316

利用課題名 / Title

炭素質コンドライトマトリクス中のプレソーラー粒子の同定

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials

キーワード / Keywords

炭素質隕石,質量分析/ Mass spectrometry


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

瀧川 晶

所属名 / Affiliation

東京大学 大学院理学系研究科地球惑星科学専攻

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

橋爪宏幸

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

竹内美由紀

利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術補助/Technical Assistance(副 / Sub),機器利用/Equipment Utilization


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-306:超微量元素計測システム(SIMS)


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

酸素同位体測地により,隕石薄片中のプレソーラー粒子のその場同定をおこなうことを目的とした

実験 / Experimental

Cameca NanoSIMS 50Lを用いて炭素質コンドライト隕石の薄片のマトリクスの同位体分析をおこなった.Cs+イオンビームを複数箇所の10x10ミクロン領域に照射し,16O, 17O, 18O, 12C, 13C, AlO, Siの2次イオンイメージングをおこなった.

結果と考察 / Results and Discussion

5800 μm2の領域を分析し,大きな酸素同位体組成異常を示すプレソーラー粒子を27粒子発見した.そのうち,2粒子は酸化物で25粒子は珪酸塩粒子であった.このうち,15粒子はGroup 1,8粒子はGroup 3, 4粒子はGroup 4に分類される粒子であった (Nittler et al. 2008).プレソーラー粒子の存在度は先行研究と比べても高く,マトリクス組織とプレソーラー粒子存在度の関係が示された.

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
  1. Hashizume, H. and Takigawa, A. In-situ Investigation on Presolar O-anomalous Grains in DOM 08006, abstract submitted to Solar System Symposium 2025. 2025年2月10日発表
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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