【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.07】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NU0240
利用課題名 / Title
Radical analysis related to plasma medical science
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋大学 / Nagoya Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
プラズマ処理/ Plasma treatment,抗腫瘍材料,大気圧プラズマ,in-situ 電子スピン共鳴
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
水野 正明
所属名 / Affiliation
名古屋大学医学部付属病院
共同利用者氏名 / Names of Collaborators Excluding Supporters in the Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Supporters in the Hub and Spoke Institutes
石川 健司,高田 昇治
利用形態 / Support Type
（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NU-235：超高密度大気圧プラズマ装置
NU-236：In-situ電子スピン共鳴
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
我々は大気圧プラズマを照射した溶液が、脳腫瘍細胞に対してプログラム細胞死として知られるアポトーシスを誘導することを発見した。本研究では、大気圧プラズマ装置を利用してプラズマ活性溶液を作成し、活性溶液中の活性種を in-situ 電子スピン共鳴法等を用いて解析した。
実験 / Experimental
超高密度大気圧プラズマ装置を用いて、L-Arg水溶液に対してプラズマ照射を行い、プラズマ処理L-Arg溶液（PTA）を作製した。細胞はMCF7乳がん細胞とMCF10A乳腺上皮細胞を用い、PTSの様々な希釈系列による細胞毒性評価実験（MTSアッセイ）を行った。また、LC-MS/MSによりPTAの成分を解析した。
結果と考察 / Results and Discussion
PTA処理によりMCF10A細胞に対してMCF7細胞を選択的に殺傷することが分かった（図１）。更に、LC-MS/MSにより、様々な成分を同定し、各成分や様々な成分の組み合わせについてMTSアッセイを行い、どのような成分が、あるいはどのような成分の組み合わせが細胞毒性を示すのかを明らかにし、その成果を論文公表した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１：プラズマ照射アルギニン溶液（PTA）による選択的殺傷効果
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
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Liyin Du, Selective Killing of Human Breast Cancer Cells by Plasma‐Treated L‐Arginine Solution, Plasma Processes and Polymers, 22, (2024).
DOI: 10.1002/ppap.202400192
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件