利用報告書 / User's Reports

  • 印刷する

【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.03.11】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24AT0242

利用課題名 / Title

カーボンナノチューブ膜の性能評価のためのデバイス作製

利用した実施機関 / Support Institute

産業技術総合研究所 / AIST

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed

キーワード / Keywords

ナノカーボン/ Nano carbon,エレクトロデバイス/ Electronic device,ナノチューブ/ Nanotube,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

桒原 有紀

所属名 / Affiliation

産業技術総合研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

佐藤 平道

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

AT-023:電子ビーム真空蒸着装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

単層カーボンナノチュー(SWCNT)は、グラフェンシートの巻き方の違いにより半導体あるいは金属の性質を示す。合成したSWCNTはこれらの混合物であるため、半導体デバイス応用にSWCNTを利用するためには、半導体型SWCNTのみを分離しなければならない。近年、様々なSWCNTの分離法が開発されており、我々も電界を用いて金属型と半導体型のSWCNTを分離する技術である電界誘起層形成法(ELF法)を開発している。今回は、高純度に分離した半導体型SWCNT分散液を取得し、SWCNT薄膜トランジスタを作製し、その性能評価を行った。

実験 / Experimental

CVD法の一種でるeDIPS法で合成したSWCNTを用いた。これを非イオン性界面活性剤の1wt%BrijS100水溶液に分散し、ELF法により高純度の半導体型SWCNT分散液を取得した。今回作成するデバイスは、バックゲート型の薄膜トランジスタであり、酸化膜(100 nm)付きのシリコンウエハをAPTESを用いて表面修飾し、その上に半導体型SWCNTNを塗布した。塗布されたSWCNT薄膜の形状は原子間力顕微鏡でおおよそ一層のSWCNTネットワークが構築されていることを確認した。NPFの真空蒸着装置を利用して、電極となるTi/Auを半導体型SWCNT薄膜の上にメタルマスクを用いて蒸着した。素子分離を行ったのち、電気特性評価を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

合成条件が異なるSWCNTの性能評価、分散条件の違いによる性能衛の影響等について評価を行った。これらの比較検討をするには、様々な実験条件で得られた半導体型SWCNTのデバイスを作成し、継続して評価を行う必要がある。さらには、SWCNT薄膜形成時における条件検討等もする中でSWCNT薄膜デバイスの性能向上を目指す。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

印刷する
PAGE TOP
スマートフォン用ページで見る